Depozice tenkých vrstev

Vakuové napařování tenkých vrstev

Vakuová aparatura VS1200 byla původně navržena pro nařování velkých substrátů (ploch) nebo sad menších vzorků uchycených na rotující kalotu technikou PVD (Physical Vapor Deposition). Zařízení slouží k nanášení tenkých vrstev včetně vícevrstevnatých struktur (sendviče). Jeho součásí je výkonný iontový zdroj pro předčištění povrchu ke zvýšení adheze. V případě napařování vrstev oxidů se s výhodou používá metoda iontově asistované depozice pro zvýšení kvality vrstev.

Aplikace
  • odrazné vrstvy pro oblasti UV, VIS a blízké infra
  • ochranné vrstvy SiO2, HfO2, TiO2, a Ta2O5
  • děliče svazku, pásmové filtry
Typy materiálu/substrátu
  • pevnolátkové substráty – sklo, plasty, kovové prvky
  • nejvyšší velikost substrátu 1000 mm OD
  • nanášené vrstvy: Al, Cr, SiO2, MgF2, ZnS, TiO2, HfO2, Ta2O5
Modes, conditions and precision
  • technické vakuum do 5.10-5 Pa
  • způsoby napařování: termický ohřev, elektronové dělo
  • možnost reaktivního napařování v kyslíkové atmosféře
  • iontově asistovaná depozice (IAD)
  • aktivace povrchu: argonový výboj, předčištění nízkoenergetickými ionty



Plazmová depozice tenkých vrstev

Hybridní plazmový HIPP depoziční systém umožňuje přípravu dielektrických optických vrstev, tenkých vrstev na polymerní fólie i depozice funkčních struktur na substráty s vodivou elektrodou.

Byl realizován hybridní plazmový HIPP (High Power Pulse) depoziční systém, jenž je založen na kombinaci modifikovaných pulzních magnetronů s vysokým stupněm ionizace a systému dutých katod s proudícím pracovním plynem. Systém pracuje v duálním pulzním HIPIMS (High Power Impulse Magnetron Sputtering) + MF (mid-frequency) režimu excitace depozičního plazmatu. Přidání MF buzení k HIPIMS pulzům významně zlepšuje kvalitu a adhezní parametry deponovaných optických struktur. Dále realizovaná laboratorní sestava původní plazmové aparatury umožňuje přípravu nanostrukturovaných funkčních systémů vznikajících depozicí nanoklastrů s kontrolovaným rozdělením jejich velikosti. Charakterizace depozičního plazmatu je založena na speciálně modifikované hmotové spektrometrii vznikajících klastrů. Depoziční plazmová aparatura je vybavena nosičem substrátů s možností připojení bipolárního pulzního MF předpětí. Jedna se o konfiguraci, jenž je určena především pro přípravu dielektrických optických vrstev. Systém je velmi vhodný pro přípravu tenkých vrstev deponovaných na tenké polymerní folie (např. depozice PZT vrstev na kaptonové fólie s Cu elektrodou) a pro depozice funkčních struktur na substráty s vodivou elektrodou (kov, ITO, apod.). Hybridní plazmový HIPP (High Power Pulse) depoziční systém obsahuje moduly pro charakterizaci parametrů depozičního plazmatu pomocí řady časově rozlišených diagnostik. Jedná se o časově rozlišenou Langmuirovskou sondu, RFEA analyzátor pro měření iontové rychlostní distribuční funkce (IVDF) a časově rozlišenou emisní spektroskopii. Realizovaný hybridní plazmový systém je určen především pro přípravu funkčních struktur dopovaných oxidů typu TiO2,WO3, Fe2O3, Y2O3, Sc2O3, (BaxSr1-x)TiO3, ZrO2, HfO2, Bi2O3, NiO,ZnO apod. včetně přípravy vybraných struktur nanoklastrů s kontrolovanou distribucí velikosti.


Pro více informací nás kontaktujte: rcptm.services@upol.cz