Pokrok v materiálech pro solární štěpení vody

Highly active very thin (< 50 nm) hematite photoanode employed for solar photoelectrochemical water slitting.[/caption] Ve spolupráci s kolegy z univerzit v Erlangenu (SRN) a Nebrasce (USA) publikovali vědci z RCPTM práci [Appl. Catal B-Environ 165, 344 (2015)] v níž popisují výhody metody „High Power Impulse Magnetron Sputtering“ (HiPIMS) pro přípravu velmi tenkých (do 50 nm), ale vysoce aktivních vrstev oxidu železitého v krystalové fázi hematitu. Vlivem nízké tloušťky a nanokrystalické struktury vrstev byla potlačena zpětná rekombinace fotogenerovaných nosičů, v důsledku krátké difuzní délky děr a bylo tak docíleno vysoké fotoelektrochemické aktivity. Fotokatalytická aktivita vrstev byla dále významně navýšena účinnou pasivací nežádoucích povrchových stavů, depozicí isokrystalických ultra tenkých (2 nm) filmů oxidu hlinitého, pomocí metody depozice atomárních vrstev (Atomic Layer Deposition - ALD).