Vakuové napařování tenkých vrstev
Vakuová aparatura VS1200 byla původně navržena pro napařování velkých substrátů (ploch) nebo sad menších vzorků uchycených na rotující kalotu technikou PVD (Physical Vapor Deposition). Zařízení slouží k nanášení tenkých vrstev včetně vícevrstevnatých struktur (sendviče). Jeho součástí je výkonný iontový zdroj pro předčištění povrchu ke zvýšení adheze. V případě napařování vrstev oxidů se s výhodou používá metoda iontově asistované depozice pro zvýšení kvality vrstev.
Aplikace
- Odrazné vrstvy pro oblasti UV, VIS a blízké infra
- Ochranné vrstvy SiO2, HfO2, TiO2 a Ta2O5
- Děliče svazku, pásmové filtry
Typy materiálu/substrátu
- Pevnolátkové substráty – sklo, plasty, kovové prvky
- Nejvyšší velikost substrátu 1000 mm OD
- Nanášené vrstvy: Al, Cr, SiO2, MgF2, ZnS, TiO2, HfO2, Ta2O5
Režimy a podmínky
- Technické vakuum do 5.10-5 Pa
- Způsoby napařování: termický ohřev, elektronové dělo
- Možnost reaktivního napařování v kyslíkové atmosféře
- Iontově asistovaná depozice (IAD)
- Aktivace povrchu: argonový výboj, předčištění nízkoenergetickými ionty
Plazmová depozice tenkých vrstev
Hybridní plazmový HIPP depoziční systém umožňuje přípravu dielektrických optických vrstev, tenkých vrstev na polymerní fólie i depozice funkčních struktur na substráty s vodivou elektrodou.
Byl realizován hybridní plazmový HIPP (High Power Pulse) depoziční systém, jenž je založen na kombinaci modifikovaných pulzních magnetronů s vysokým stupněm ionizace a systému dutých katod s proudícím pracovním plynem. Systém pracuje v duálním pulzním HIPIMS (High Power Impulse Magnetron Sputtering) + MF (mid-frequency) režimu excitace depozičního plazmatu. Přidání MF buzení k HIPIMS pulzům významně zlepšuje kvalitu a adhezní parametry deponovaných optických struktur. Dále realizovaná laboratorní sestava původní plazmové aparatury umožňuje přípravu nanostrukturovaných funkčních systémů vznikajících depozicí nanoklastrů s kontrolovaným rozdělením jejich velikosti. Charakterizace depozičního plazmatu je založena na speciálně modifikované hmotnostníové spektrometrii vznikajících klastrů. Depoziční plazmová aparatura je vybavena nosičem substrátů s možností připojení bipolárního pulzního MF předpětí. Jedná se o konfiguraci, jež je určena především pro přípravu dielektrických optických vrstev. Systém je velmi vhodný pro přípravu tenkých vrstev deponovaných na tenké polymerní fólie (např. depozice PZT vrstev na kaptonové fólie s Cu elektrodou) a pro depozice funkčních struktur na substráty s vodivou elektrodou (kov, ITO, apod.). Hybridní plazmový HIPP (High Power Pulse) depoziční systém obsahuje moduly pro charakterizaci parametrů depozičního plazmatu pomocí řady časově rozlišených diagnostik. Jedná se o časově rozlišenou Langmuirovskou sondu, RFEA analyzátor pro měření iontové rychlostní distribuční funkce (IVDF) a časově rozlišenou emisní spektroskopii. Realizovaný hybridní plazmový systém je určen především pro přípravu funkčních struktur dopovaných oxidů typu TiO2,WO3, Fe2O3, Y2O3, Sc2O3, (BaxSr1-x)TiO3, ZrO2, HfO2, Bi2O3, NiO,ZnO a podobně, včetně přípravy vybraných struktur nanoklastrů s kontrolovanou distribucí velikosti.
